该项专利的专利号为6042998，是一项双重图形光刻技术，该技术对于芯片制造至关重要。当前，芯片上的半导体和其他元件的体积也越来越小，全球的半导体厂商都在寻找新的制造技术。
目前，已经有5家半导体厂商与STC签署了技术授权协议，包括东芝、三星电子和台积电。
STC在一份声明中称：“此次起诉英特尔是为了保护新墨西哥大学、专利发明人和被授权方的利益，同时也希望英特尔能够对非法使用该技术而做出补偿。”
STC还称：“本不希望将英特尔诉诸法庭，但几经沟通后无果，才被迫起诉英特尔。”STC希望法庭裁定英特尔侵权，并做出相应赔偿。
对此，英特尔尚未发表评论。
